半導(dǎo)體材料的制作過程中，每一個(gè)過程包括清潔，清洗直接影響到下一道工序，甚至?xí)绊懺O(shè)備的成品率和可靠性。

晶片生產(chǎn)的每一個(gè)過程的潛在的污染可能會(huì)導(dǎo)致產(chǎn)生缺陷和設(shè)備故障。因此，超聲波清洗機(jī)設(shè)備的小編表示，硅片的清洗已經(jīng)引起專業(yè)人士的關(guān)注。許多制造商都用手洗，這種方法人為的因素，一方面，容易碎裂，經(jīng)濟(jì)衰退，另一方面手洗的晶圓表面清潔度，污染嚴(yán)重，下道工序投擲腐蝕合格率較低。硅片清洗技術(shù)已引起人們的重視，找到一個(gè)簡(jiǎn)單而有效的清洗方法是當(dāng)務(wù)之急。專業(yè)介紹了一種超聲波清洗技術(shù)，超聲波清洗機(jī)設(shè)備的小編表示，晶圓清洗效果顯著，是一種值得推廣的晶圓清洗技術(shù)。

如顆粒，有機(jī)雜質(zhì)，無機(jī)雜質(zhì)，金屬離子，硅粉和灰塵，從而導(dǎo)致研磨后的硅晶片容易產(chǎn)生改變花的頭發(fā)，藍(lán)色，黑色等，所以研磨失敗。硅片清洗的目的是去除各種污染物。